美國 Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥赫爾納供應(yīng)

美國 Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥赫爾納供應(yīng)，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn)，原裝產(chǎn)品，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

公司簡介：

世偉洛克是工業(yè)流體系統(tǒng)制造和支持領(lǐng)域的全球領(lǐng)者。自 1947 年推出革命性的無泄漏式 世偉洛克®卡套管接頭以來，我們始終秉承制造高品質(zhì)產(chǎn)品的激情和滿足客戶 需求的堅(jiān)定信念，幫助各行各業(yè)在苛刻的應(yīng)用條件下安全、高效、可靠地輸送液體和氣體。。

主要產(chǎn)品：

管接頭、閥門、軟管和軟性卡套管、調(diào)壓閥、快速接頭、定制化方案等。

產(chǎn)品型號：

ALD3、ALD6、ALD7、ALD20

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥產(chǎn)品介紹：

世偉洛克超高純原子層沉積 (ALD) 閥具有實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造應(yīng)用中進(jìn)樣所需的超高循環(huán)壽命、快速動作、流量、熱浸沒和高潔凈度。我們的高性能 ALD 閥是世偉洛克長期以來在半導(dǎo)體制造業(yè)中顯示出迅速響應(yīng)的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)力的一個(gè)重要例子。ALD 閥技術(shù)問世以來，世偉洛克與半導(dǎo)體行業(yè)的客戶密切合作，了解他們的需求，然后打造出 ALD 閥，提供必要的、高水平的精度、一致性、清潔度和高循環(huán)壽命，以跟上市場的快速創(chuàng)新步伐。

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥主要特點(diǎn)：

ALD3 和 ALD6 隔膜閥在原子層沉積應(yīng)用中具備強(qiáng)大的性能，可實(shí)現(xiàn)高速執(zhí)行下的超高循環(huán)壽命。

ALD7 超高純隔膜閥提供了在半導(dǎo)體制造應(yīng)用中盡可能地提高芯片成品率所需的精度和一致性。

使用 ALD20 超高純閥門推進(jìn)原子層沉積技術(shù)，其流速是其他 ALD 閥門的 2-3 倍。

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥產(chǎn)品優(yōu)勢：

? 快速動作下的超高循環(huán)壽命

? Cv 范圍從 0.27 至 1.7

? 耐熱能力高達(dá) 392°F (200°C)

? 電子或光學(xué)執(zhí)行機(jī)構(gòu)位置傳感選購件

? 憑借 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體而適合超高純應(yīng)用場合

? 模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR® 端接

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥主要應(yīng)用：

半導(dǎo)體行業(yè)、光纖設(shè)備制造、流體系統(tǒng)等。